KX-H-VPF312818-2200
高温纯化炉
产品功能
把石墨件、软硬毡及 碳‑碳复合材料,去除金属、硼、硅、钙、铁、铝(B, Si, Ca, Fe, Al) 等杂质,生产超高纯石墨,主要用于半导体、光伏热场部件。
把石墨件、软硬毡及 碳‑碳复合材料,去除金属、硼、硅、钙、铁、铝(B, Si, Ca, Fe, Al) 等杂质,生产超高纯石墨,主要用于半导体、光伏热场部件。
生产超高纯石墨
主要用于半导体、光伏热场部件
产品特点
炉腔
有效空间2×2×9.6 m
保温
保温层热传导率0.25W/(m·k)@1,080°C; 保温层厚度210mm。
耐温
最高工作温度达2,200°C。
产品尺寸
产品宽度/直径达到2m。
产能
最大装载达5t。
除杂效果
杂质含量200PPM的石墨件,经高温纯化后杂质含量低于20PPM。
技术参数
| 上料方式 | 卧式, 间歇式, 单侧进/ 出料 |
| 设计温度 | 2,400 ℃ |
| 最高工作温度 | 2,200 ℃ |
| 升温速率 | 1-5℃/min |
| 温度控制精度 | 0.1 ℃/min |
| 温度均匀性 | ±15 ℃ |
| 额定功率 | 1,300 kW |
| 进气速度 | 2100 L/min |
| 进气方式 | 一侧进气,另一侧排气,12根进气管均匀分布,每根进气管分5个进气口进入炉内 |
| 极限真空 | < 50Pa |
| 压升率 | ≤5Pa/h |
| 故障率 | ≤1%(故障率=设备故障停机时间/负荷时间×100%) |
| 设备占地 | L25 × W10 × H7m |
| 所需净空间 | L27 × W12 × H8m |
| 炉室内尺寸 | 10.7 × 3.1 × 2.8m |
| 工作区有效空间 | 9.6 × 2 × 2m |
| 设备总重 | 约 80 t |
| 最大装载净重量(进炉前) | 5t |
| 设备主体外观 | 灰白色,国标色卡RAL9002 |
公共设施参数
| 环境 | 环境温度:5℃~35℃ |
| 冷却水:去离子水,高位储水 | |
| 水压:0.15MPa~0.3MPa;水流量:220m³/h | |
| 电源:三相 380 VAC @ 50Hz,负荷 2,000 kVA | |
| 气体 | 氩气(流量2000L/min)+纯化气体氟利昂R22(流量100L/min) |
| 所需空间 | L27 × W12 × H8m |
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